淘研报 | 光伏、半导体都需要使用的设备，已经开始国产化！
据美国侨报综合报道17日，全球规模最大、规格最高的半导体产业年度盛会“SEMICONChina2021国际半导体展”在上海浦东开幕，世界半导体巨头皆出席大会。在芯片严重短缺的当下，全球业内人士都希望在这场大会上找到办法解决企业困境。2020年，新冠疫情大流行催化了“宅经济”的迅猛发展，强化了人们对“万物互联”的需求。《上海证券报》写道，半导体景气度之高充分体现在了展会上，多达1100家半导体公司参与了本次大会，很多地方的公司更是联合参展。中国芯片技术一直是“卡脖子”难题。
在美中科技角逐的大背景下，美国的交易禁令使中国半导体业的尖端发展雪上加霜。中国工程院院士吴汉明在大会上指出，中国目前的芯片制造产能发展，严重滞后于需求，供给能力和需求的差距越来越大。想要彻底解决，只有实现国产替代。
真空泵是制造业重要的通用设备，是用来获得真空环境的系统，是半导体、科学仪器、化工、制药行业重要的子系统，应用广泛。真空泵是真空系统重要的组成部分，是用来产生、改善和维持真空环境的装置。
根据ISVT，2019年全球真空设备的市场规模约350亿元，其中半导体用真空设备约135亿元，占比约38%，是最大的应用领域，此外光伏领域的真空泵需求正快速增长。
根据我们测算，2019年全球半导体真空泵的设备与服务需求市场规模约130亿元，
参考IC sights对全球晶圆产能的预测，预计到2025年市场规模可达到217亿元，复合增占率约9%，保持温和增长，其中存量真空泵的更新占到整个设备市场的60~70%，庞大的存量市场保证了半导体真空泵的稳定需求，减小了行业的波动性。根据我们测算，2019年我国半导体真空泵的设备与服务需求规模约31亿元，2025年预计可达到57亿元，维持稳定增长。
在半导体产业刚起步的时候，仅有两种处理工艺需要用到真空腔。一种是只有一层金属的蒸铝工艺，另一种是在硅片背面蒸金以便将电路芯片固定在它的管壳上，那时的真空工艺是在类似钟罩的腔内进行的。
当前，半导体制造过程中的许多化学反应都是在真空条件下进行的，使用工艺腔来实现受控的真空环境。
从20世纪80年代后期，工艺腔被构造为多腔集成设备。硅片在真空环境下从一个工艺腔传送至另一个工艺腔，避免了硅片的原始氧化并减少了污染。半导体工业是真空泵非常重要的应用领域，是当前主要的增长动力。
目前真空泵已经广泛应用在半导体制造的多个工艺环节中，包括刻蚀、镀膜、扩散等等。为了将制造过程控制在更小的尺寸上，越来越需要以更高的精度和均匀性执行更多的半导体制造过程步骤。为了实现这一点，半导体工艺必须在极度受控的真空环境中运行。
随着功能和电路尺寸的减小，半导体制造中的工艺步骤数量将继续增加，从而导致真空设备需求的增加。此外，小型化还需要新的制造技术，如多模和EUV光刻技术，这将进一步推动半导体制造商采用真空系统。
太阳能发电成本不断降低，需求进入上升期，根据硅业协会和我们的统计，预计硅片/电池片/组件等各环节2021年扩产规模均在100GW以上，拉晶、镀膜、层压等环节对真空泵均有需求，下游的大幅扩产预计将带动光伏行业真空泵市场规模的快速增长。同时，光伏行业现在面临PERC+/TOPCon/HJT等技术路线的分歧，设备降本对技术路线影响较大，设备降本的需求有利于进一步推进真空泵的国产化进程。
根据我们的测算，2019年我国光伏行业对真空泵的设备与服务需求规模约21.7亿元，预计至2022年可增至55.5亿元，复合年增长率达36%。
随着组件价格的大幅下降，与之同时发生的则是随着设备的国产化与产能的逐步上升，设备投资额的大幅度下降，目前多种技术路线并行、竞争焦灼的现阶段，设备投资额将是决定技术路线走向的重要一环，而将若干零部件国产化将会是设备降本的一个有效驱动因素。
当前全球半导体真空泵市场主要由Edwards、Kashiyama、Ebara等少数几家国际知名公司占据，2019年Atlas真空部门的收入约26.9亿美元，当年在真空领域的市占率约53%，处于绝对领先地位。国内以汉钟精机、中科仪为代表的国内半导体真空泵优秀企业已逐步实现国产替代。受益下游光伏领域积极扩产以及国产化率显著提升，真空泵需求预计将持续保持快速增长；而未来在半导体领域的逐步拓展，将进一步打开成长空间。未来可以关注国内半导体真空泵的优质企业：汉钟精机、中科仪（拟上市）。
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