星空行研︱光刻胶的崛起之路，没那么容易

编辑按：本文转载至微信公众号“星空财富”，飞鲸投研经授发布 。

今年，只占整个半导体市场不足1%的光刻胶，却吸引了资本市场无数的目光。

年初日本的213地震，让日商主导的约八成光刻胶供应告急。果然3个月之后，日本光刻胶开始断供中国，牢牢卡着中国人的脖子。同时，我国企业上海新阳（300236）公告自主研发的KrF厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。

一边是光刻胶龙头断供，一边是国产研发取得实质性进展，让股价直接起飞，并上涨了3个月。

图片：光刻胶指数涨幅

这也更让我们意识到，中国要研发属于自己的光刻胶，此事刻不容缓。这不，华为为了培育自己的芯片生产供应链，华为哈勃3亿元增资了一家光刻胶企业徐州博康，这是为哈勃历史上最大单笔半导体产业链投资。

但是，光刻胶真的是只靠砸钱就能出成效的行业吗？国产替代喊了这么多年，何时才能有真正的出头之日呢？今天笔者就带你好好捋一捋这其中的内在逻辑。

图片来源：央视财经

01

高端光刻胶，我们也就1%

先用通俗语言介绍下什么光刻胶。

光刻，顾名思义，就是拿光线雕刻出精密图案的过程。这里的雕刻指的就是曝光。光刻胶是一种抗蚀剂，可以与光线发生反应，让芯片材料上出现所需的精密电路图案。

给你一组简单的数据，你就能理解光刻这一步的关键之处。光刻工艺时间占比约为40-50%，总成本占比约为35%，光刻胶材料总成本占比约为5-6%。

图片：光刻的工艺流程

用不同的光雕刻，就得搭配不同的光刻胶，就好比多大的脚穿多大的鞋，比如248nm的光波对应的就是KrF光刻胶。而光刻胶的质量和性能，会直接影响到集成电路制造过程中的良率。光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片的性能越好。

图片来源：市界

拥有超过80亿市场规模的光刻胶，下游可不止用在半导体上，PCB板（印制电路板）和LCD（液晶显示器）中都能看到它的身影。

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PCB、LCD、半导体三种主要的应用场景，对光刻胶每年的需求量基本一致。但是，光刻胶的研发难度和技术门槛从低到高。从国产化程度就可以看出来：

1. PCB光刻胶中的湿膜光刻胶，几乎能做到50%以上是国产的；

2. LCD光刻胶中的彩色光刻胶和黑色光刻胶，5%左右能实现国产替代；

3. 半导体光刻胶中的KrF、ArF作为高端光刻胶，我国的市占率，仅1%。而就这1%，也成了国内玩家兵家必争之地。

图片：光刻胶下游应用

而今天，我们主要聊的就是半导体光刻胶。想起《亮剑》中李云龙的一句经典名言：

老子打的就是精锐。

02

我国玩家，到底差在哪里了？

既然我国只有1%的市占率，那99%的蛋糕都被谁给吃了呢？

图片：光刻胶市场主要参与者

纵观光刻胶产业的发展历史，日本曾演绎了一出后来者居上的好戏。

其实，美国柯达其实是光刻技术的最早应用者。美国IBM公司在1980年的时候，就已经突破了KrF光刻技术。但是，1986年开始半导体市场进入萎靡周期，这让美国的半导体企业惨遭重创。

而日本的奋起反击，则从1976年开始。以尼康、佳能等企业全面布局光刻机，事情开始出现了转折，此后日本涌现出了一批光刻胶的玩家。东京应化于1995年也研发出KrF光刻胶并实现大规模商业化，凭借着更优异的性能和更低廉的成本，标志着光刻胶正式进入日本厂商的霸主时代。2011年，JSR与SEMATECH 联合开发出EUV光刻胶，已经站上了金字塔的顶端。

天时地利人和，为日本的崛起，奠定了基础。全球半导体光刻胶的市场，除了美国杜邦，前六名中的五席被日本企业所占据，这5家吃掉了超过70%的蛋糕。全球光刻胶看日本，一点儿毛病都没有。

图片来源：TECHCET

蜀道难，难于上青天。那我国的光刻胶产业，究竟落后在哪里了呢？笔者觉得主要有四个原因：

01

光刻机被卡脖子

光刻机是研制高端光刻胶的重要设备，一台光刻机的售价从数千万美元到上亿美元不等，全球最先进的EUV光刻机售价达1.2亿美，这就说明光刻胶的性能验证成本极高。而高端国产光刻机每年的生产数量是0。每年全球400多台光刻机的产能主要掌握在ASML手里，国外还动不动来个光刻机出口限制。比如晶瑞电材（300655）买台光刻机都只能买到韩国SK海力士淘汰下来的二手货。

02

认证时间长

光刻胶想要得到下游客户的点头同意，一般需要2-3年的时间。而且下游客户一旦认证了光刻胶，为了保证自身的产品的稳定性，其实并不愿意轻易更换其它产品的。这就意味着上下游出现强绑定的局面，转换成本很高。这也让光刻胶新入局者缺乏动力。

03

专利技术被国外控制

上面也讲到了，光刻胶的制作工艺复杂，而且纯度要求高、配方因下游客户的不同需求而异。为了满足下游客户的差异化需求，需要长期的研发和经验积累。我国进入光刻胶领域时间短，大量专利技术掌握在海外龙头企业手中，存在极高的技术壁垒。笔者大致统计了下JSR在光刻胶的技术专利，仅是公开的专利就超过2000个。

04

原材料同样靠进口

原材料是影响光刻胶纯度最直接的因素，比如在光引发剂、树脂等光刻胶重要原材料领域，日本依然具备较高的垄断程度。产业链上下游都被日本所控制，我们想实现光刻胶的单点突破，难度可想而知。

所以，往美好地说，我们光刻胶在国产替代上的想象空间很大，往现实地说，想从虎口多食，你自己手里得先有一把猎枪。

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03

国产替代的脚步紧跟，然而依旧征途漫漫

我们想要从日本布下的天罗地网中突围，很难，但也不是一定机会都没有。

或许走农村包围城市的道路，我们的光刻胶能找到些许光明：

01

政策和资本先行，为行业的玩家注入信心

虽然说，芯片产业链绝对不是拿钱能砸出来的，但是如果没有庙堂从宏观层面利用政策，推动这个回收周期长的资本密集型行业发展，恐怕逐利的资本也难有进入的动力。

02

从低端起步，向高端发力

在技术壁垒这么高的行业中，想一口吃个大胖子其实很难。但如果先进入农村，即向PCB和LCD光刻胶进军，一点点积累经验和技术，才有打入高端市场的资本。比如PCB，中国是最大产值国，2020 年市场规模为352亿美元（占比 54%），而且下游随着5G、云计算等需求的增加。国内玩家能否在这一波PCB红利期抢占光刻胶市场，值得期待。

03

上下游协同

单丝不成线，孤木不成林。从光刻胶的发展历程我们就不难看到，日本光刻胶的崛起，离不开尼康当年光刻机的鼎力相助（虽然因选错了技术路线，目前已被ASML超越），还有上游已经形成规模的光刻胶原材料产业集群。所以，光刻胶发展，需要上下游协同推进才有出路。

04

人才不可或缺

虽然俗话说三个臭皮匠，顶一个诸葛亮。但笔者坚信，光刻胶领域中这句话很难适用。我国光刻胶领域人才匮乏，研发能力不强，亟待引进海外的技术专家和人才团队，但前提是需要有资本的助力。

是眼前的苟且，还是诗和远方的田野，是摆在每一位专家面前非常现实的问题。

所以，为了不再受制于人，光刻胶国产化是大势所趋。但在实现国产化的目标中，我们依旧有很长的路要走。

已经形成星星之火的国内头部企业，且行且珍惜。